Hello Guest

Sign In / Register

Welcome,{$name}!

/ Log ud
Dansk
EnglishDeutschItaliaFrançais한국의русскийSvenskaNederlandespañolPortuguêspolskiSuomiGaeilgeSlovenskáSlovenijaČeštinaMelayuMagyarországHrvatskaDanskromânescIndonesiaΕλλάδαБългарски езикGalegolietuviųMaoriRepublika e ShqipërisëالعربيةአማርኛAzərbaycanEesti VabariikEuskera‎БеларусьLëtzebuergeschAyitiAfrikaansBosnaíslenskaCambodiaမြန်မာМонголулсМакедонскиmalaɡasʲພາສາລາວKurdîსაქართველოIsiXhosaفارسیisiZuluPilipinoසිංහලTürk diliTiếng ViệtहिंदीТоҷикӣاردوภาษาไทยO'zbekKongeriketবাংলা ভাষারChicheŵaSamoaSesothoCрпскиKiswahiliУкраїнаनेपालीעִבְרִיתپښتوКыргыз тилиҚазақшаCatalàCorsaLatviešuHausaગુજરાતીಕನ್ನಡkannaḍaमराठी
Hjem > Nyheder > Nanya Technology: Tre faktorer har fået virksomheden til at bygge en ny 12-tommers advanced Wafer Fab

Nanya Technology: Tre faktorer har fået virksomheden til at bygge en ny 12-tommers advanced Wafer Fab

I dag (20) meddelte Nanya-teknologien, at det vil bruge NT 300 milliarder dollar til at opbygge en 12-tommers advanced Wafer Fab, som forventes at starte konstruktion i slutningen af ​​dette år.


Juheng.com rapporterede, at af grundene til, at virksomheden planlægger at opbygge en ny fabrik på nuværende tidspunkt, påpegede Li Peiying, generaldirektøren for Nanya Branch, tre faktorer. For det første har virksomheden i øjeblikket utilstrækkelig plads til 3A-anlægget. Opførelsen af ​​den nye fabrik er i tråd med den langsigtede udviklingsplan og fortsætter med at fremme procesteknologi, udvikling af produktteknologi og kapacitetsplanlægning; For det andet, takket være 5G, AI, industrielle og andre anvendelser, vokser efterspørgslen efter DRAM-feltet støt med 15-20% hvert år; For det tredje har andre leverandører også udvidet deres produktion i henhold til den faktiske efterspørgsel efter markedet.

Derudover sagde Li Peiying, at Nanya's nye 12-tommers anlæg vil blive udvidet i tre faser i de næste syv år med en planlagt månedlig produktionskapacitet på 45.000 stk. I 2024 vil den første fase af masseproduktion blive fremstillet med en månedlig produktionskapacitet på ca. 15.000 stk. Den anden generation 10nm proces udviklet af virksomheden vil fortsat blive introduceret i tredje og endda fjerde generationer. Hvad angår EUV (ekstreme ultraviolet lys) litografi produktionsteknologi, vil det også starte fra tredje generation.